氦质谱检漏仪的优点
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北京科仪创新真空技术有限公司是国内新兴的一家专业从事真空领域的高新技术企业。仪创新产品主要有:薄膜制备设备,真空冶金设备,检漏设备,真空系统等非标真空产品;系列分子泵,离子泵,钛升华泵,深冷捕集泵等高真空获得设备;系列干式涡旋泵,干式爪泵,干式螺杆泵等无油真空获得设备;超高真空环境模拟设备等高新技术产品。如您想了解更多您可拨打图片上的电话进行咨询,科仪创新竭诚为您服务!今天小编就和大家分享一下氦质谱检漏仪的优点。真空氦罩法采用有一定密闭功能的氦罩将被检产品全部罩起来,在罩内充满一定浓度的氦气,可以实现被检产品总漏率的测量。
1.采用便携式设计
2.设备外型美观小巧
3.采用液晶触摸屏设计
4.有通讯接口
5.可以方便地将检漏数据输出
氦质谱检漏仪的注意事项
检漏仪的响应时间会影响检漏工作的速度,正常运行的仪器响应时间不大于3s。笔者实测时,在漏点处喷射氦气5~10s后,检漏仪就发生响应,对于如此庞大的真空系统,其反应是相当的灵敏。
检漏时喷枪在漏孔处停留的时间应为仪器响应时间的3倍,该时间再加上氦气在真空系统中的传递时间,即为两次喷氦的较小间隔时间,当然真空系统越庞大,该间隔时间也越长。(3)其它据日本有关文章介绍,日本汽车制造业,已有30多种零部件在使用氦质谱检漏仪检漏,解决密封问题。笔者根据实测经验,两次喷氦的较小间隔时间控制在30s左右,即如果次喷氦后30s内检漏仪还没有反应,则可进行第二次喷氦。
清除时间在理论上与响应时间相同,但由于仪器零件对氦的吸附和脱附作用的影响,清除时间一般要更长些。笔者测算,在测试到数量级为10-9P a ?m3/s的微漏漏点时,清除时间约须1分钟;在测试到数量级为10-8P a ? m3/s的中漏漏点时,清除时间约须2分钟;在测试到数量级为10-7Pa?m3/s的大漏漏点时,清除时间在3分钟左右。(2)高压强下检漏:检漏口压强可高达数百帕左右,对检测大系统和有大漏的工件很有益。
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氦质谱检漏仪光无源器件检漏
光无源器件是不含光能源的光能器件的总称。光无源器件在光路中都要消耗能量,插入损耗是其主要性能指标。由于He具有无色、无臭、无活性、不可燃的特性,因此一般检漏都采用氦气(He)作为示漏气体,但也有用氢气(H)作为示漏气体的,考虑到它的化学性质及危险性,在应用中较少使用,所以实际大部分检漏使用的都是氦气。光无源器件有光纤连接器、光开关、光衰减器、光纤耦合器、波分复用器、光调制器、光滤波器、光隔离器、光环行器等。它们在光路中分别实现连接、能量衰减、反向隔离、分路或合路、信号调制、滤波等功能。本文主要介绍氦质谱检漏仪在无源器件中的检漏应用。
光无源器件是不含光能源的光功能器件的总称。光无源器件在光路中都要消耗能量,插入损耗是其主要性能指标。24×10-6,如果氦气在环境中的含量超过标准,可以比较容易地探测到极微量的氦气。光无源器件有光纤连接器、光开关、光衰减器、光纤耦合器、波分复用器、光调制器、光滤波器、光隔离器、光环行器等。它们在光路中分别实现连接、能量衰减、反向隔离、分路或合路、信号调制、滤波等功能。本文主要介绍氦质谱检漏仪在无源器件中的检漏应用。
无源器件检漏原因:光无源器件是光纤通信设备的重要组成部分,也是其它光纤应用领域不可缺少的元器件。具有高回波损耗、低插入损耗、高可靠性等特点。笔者测算,在测试到数量级为10-9Pa?m3/s的微漏漏点时,清除时间约须1分钟。光无源器件对密封性的要求极高,如果存在泄漏会影响其使用性能和精度,光通信行业的漏率标准是小于 5×10-8 mbar.l/s,因此需要进行泄漏检测。氦质谱检漏法利用氦气作为示踪气体可准确定位,定量漏点,替代传统泡沫检漏和压差检漏,目前已广泛应用于光无源器件的检漏。
氦质谱检漏仪的结构和工作原理
氦质谱检漏仪是180°磁偏转型的质谱分析计,其基本原理是根据离子在磁场中运动时,不同质荷比的离子具有不同的偏转半径来实现不同种类离子的分离。检漏仪主要由质谱室、真空系统及电气控制部分组成。氦质谱检漏仪是根据质谱学原理,用氦气作示漏气体制成的气密性检测仪器。检漏工作时先打开抽空阀前级泵对检漏接口抽真空,当真空度P1 优于200 Pa 时,打开入口阀1、2,关闭抽空阀,氦气将逆着分子泵的抽气方向进入质谱室中被检测出来,此时检漏仪的较小可检漏率为10- 10 Pa·m3/s。前级泵继续对检漏接口抽真空,当P1降至20 Pa 时,入口阀2 关闭,入口阀3 打开,分子泵的高抽速用于抽空试件,检漏仪的反应时间缩短,此时检漏仪的较小可检漏率为10- 12 Pa·m3/s。